目前，潔凈車間已廣泛應用于各個行業，以防止顆粒污染或其他要求，防止顆粒污染，控制微生物污染環境。無塵車間目前級別最高的當屬航天航空的航空倉，基本是屬于1級，屬于特殊領域，面積相對較小。另外對級別要求較高的是生化實驗室和高精納米材料生產車間，物聯網芯片的發展將是未來需求的一大方向。潔凈室對于凈化空調系統的加濕問題而言，常用的加濕方法有很多種，有淋水、濕膜、高壓噴霧超聲波等水加濕，這些加濕方法屬等焓加濕過程。而噴蒸汽、噴干蒸汽和電極（電熱）加濕是向空調送風中噴蒸汽，其加濕方法屬等溫加濕過程。無塵室凈化工程中各級空氣潔凈度的空氣凈化處理，均應采用初效、中效、高效空氣過濾器三級過濾。100000級空氣凈化處理，可采用亞高效空氣過濾器代高效空氣過濾器。由于不同行業的產品特點不同，不同產品的生產過程不同，使用要求也不同，環境控制的內容和指標也不一樣。無塵車間的環境治理內容應包括：空氣凈化、潔凈建筑、直接接觸水、氣、化工產品及生產設備、工業設備等污染物控制、微振動、噪聲、靜電控制、預防等。因此，無塵車間的設計不僅要求室內空氣凈化達到規定的空氣潔凈度等級，而且還必須防止建筑材料和無塵車間裝修不當造成的污染。一些無塵車間還要求供應超純水、超純氣體和高純度化學品.

1.半導體集成電路所需的空氣潔凈度

集成電路生產環境對空氣潔凈度的要求主要取決于集成電路的集成。不同工藝中的空氣潔凈度水平取決于可能污染的可能性和設備的潛在故障。

舉例說明：

例1、一廠前集成電路工藝潔凈廠，無塵車間按加工設計，生產6英寸硅片，1米集成電路，圖形專用直尺雨1.0 um，控制顆粒尺寸0。....1

潔凈室空氣潔凈度等級要求：

光刻，膠水區ISO 3

離子注入、蝕刻CVD、外延和擴散的ISO 3級操作區

離子注入、蝕刻cvd、擴展、擴散等。維修區5

例2、潔凈廠房前的集成電路、無塵車間設計生產5英寸硅片、256 K集成電路、圖形專用尺雨2.0um。粒徑控制在0.2um左右。該工藝旨在生產5英寸硅片、256 K集成電路，并控制粒度為0.2μm。

潔凈室空氣潔凈度等級要求：

光刻和調平區的ISO 3級

離子注入，蝕刻cvd，外延，擴散等。操作區域4

離子注入、刻蝕CVD、外延、擴散等維護領域ISO 6。

2.某些電子產品生產環境的空氣潔凈度

隨著信息技術的發展，許多電子產品的性能和質量的提高，以及生產過程的小型化，對生產環境進行一定程度的空氣潔凈和控制供給的要求越來越高。無塵車間工藝生產所需各種高純材料的質量。目前國內外電子產品沒有統一的供氣方式。根據《空氣潔凈度等級統一規定》或《生產環境控制要求》，各類電子產品生產企業根據產品品種、生產工藝、產品特點，確定設計建造無塵車間的空氣潔凈度等級。生產工藝設備、生產用原輔材料及無塵車間實際操作經驗。

舉例說明：

例如，在生產薄膜晶體管彩色液晶顯示器的無塵車間中，tft-lcd具有尺寸小、質量輕、攜帶方便、功耗低、色彩逼真、容量大、分辨率高等優點。